光刻机巨头ASML交付首台高产能EUV光刻机 中国不用再担心了

这种说法是不准确的。

虽然ASML的EUV光刻机在芯片制造领域有着关键意义，但中国在获取EUV光刻机方面仍面临诸多挑战：

外部限制因素
出口管制
   美国等西方国家出于地缘政治等因素的考虑，对ASML向中国出售EUV光刻机进行严格的管制。即使ASML有商业上的交付意愿，也难以突破这些限制。
技术封锁联盟
   美国通过各种手段拉拢盟友形成技术封锁联盟，试图阻止中国在高端芯片制造技术上的发展。这使得中国企业很难通过正常的商业渠道获得包括EUV光刻机在内的先进半导体制造设备。

中国的自主发展需求
产业安全
   中国半导体产业的发展不能完全依赖于国外设备供应商。如果在关键设备上被“卡脖子”，将对中国庞大的电子信息产业安全造成严重威胁，从智能手机制造到5G通信、云计算等众多领域都会受到冲击。
自主创新动力
   中国需要发展自己的高端光刻机技术。虽然中国在光刻技术方面与国际先进水平还有差距，但已经在不断加大研发投入，在DUV（深紫外）光刻技术等方面取得了一定的进展，并且持续向着更高水平的光刻技术攻关，以实现半导体产业的自主可控发展。